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製品情報

光酸発生剤(スルホニウム塩タイプ)

CPI®-100 / 200シリーズ
UV / i線対応
CPI®-300シリーズ
i線対応
VC-1 開発品
i線対応
  • VC-1FG(粉体)
  • カチオン
    (光吸収部位)

    カチオン(光吸収部位)構造式
CPI®-400シリーズ
g線対応 / h線対応 / i線対応
ES-1 開発品、ES-2 開発品
g線対応 / h線対応 / i線対応
  • ES-1B(粉体)
  • ES-2B(粉体)
  • カチオン
    (光吸収部位)

    カチオン(光吸収部位)構造式

光酸発生剤(ヨード二ウム塩タイプ)
IKシリーズ

  • IK-1(粉体)
  • IK-1FG(粉体)
  • カチオン
    (光吸収部位)

    カチオン(光吸収部位)構造式
  • IK-20B(粉体)
  • カチオン
    (光吸収部位)

    カチオン(光吸収部位)構造式

光酸発生剤(非イオン性タイプ)

NAシリーズ(開発品)
i線対応
  • NA-CS1(粉体)
  • 光吸収部位:
    アリールアミド骨格

    光吸収部位:アリールアミド骨格

TAシリーズ(スルホニウム塩タイプ)

IKシリーズ(ヨード二ウム塩タイプ)

  • IK-1(粉体)
  • IK-1FG(粉体)
  • カチオン

    カチオン

AAシリーズ(アンモニウム塩タイプ)

  • AA-01(粉体)
  • カチオン

    カチオン

 

  • IK-20B(粉体)
  • カチオン

    カチオン
  • DBN(液体)
  • 構造式

熱塩基発生剤

DBU塩 熱塩基発生剤

DBU塩

DBU塩

DBU誘導体塩

DBN塩

フェニルホスフィン誘導体塩

ウレア類

アミン類

アンモニウム塩類

沿革

地球の未来を見据えながら、お客様の要望するニーズを的確に捉え、現代社会においてなくてはならない素材を創り出す。

当社が手掛ける光酸発生剤などの製品は、半導体製造をはじめとする先端産業に欠かせないものですが、今後さらに未来に向かって微細化、高純度化することが求められています。それはさまざまな製品の小型化、省電力化につながり、それがエネルギー保護、さらには環境保護に繋がっていきます。地球の未来を見据えながら、お客様の要望するニーズを的確に捉え、価値が高く、現代社会においてなくてはならない素材を創り出す。それが当社のミッションであると考えています。

1966年 日本の三洋化成工業(株)と米国アボット社との合弁会社「サンアボット」を設立
1967年 世界初有機超強塩基「DBU」を創製、工業化に成功し用途開拓を開始
1970年 「U-CAT SAシリーズ」(DBU塩)を開発。ウレタン触媒、エポキシ硬化促進剤として市場開発を開始
1986年 外資親会社が米エアプロダクツ社に変わり、社名を「サンアプロ」に変更
1998年 DBUに替わる新規製品の市場、技術調査を開始。「光酸発生剤」を開発
2003年 光酸発生剤(光カチオン重合開始剤用)「CPI-100P、101A」を上市、製缶塗料、光造形樹脂市場への参入開始
2007年 非Sb、高活性化を特徴とした「CPI-200K」を開発、市場投入開始
2010年 i線高感度の「CPI-300シリーズ」を開発、電子材料市場へ参入
2016年 会社設立50周年。「光酸発生剤」の売上が順調に増加し、事業転換が進捗中
2017年 1月、外資親会社が独エボニック社に変更
サンアプロ株式会社東京オフィス
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